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第 74 章 山巍[06](“未来的合作对象或许是华...) 黑科技进修手册

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“蓝河科技与申市微电子科技达成战略合作,共同组装13.5nmEUV,已完成仿真建模的初步阶段。同时水木大学的朱教授传来双工作台系统核心技术被攻破、南大光电研发的ArF光刻胶进度飞速,申市和春城光机所一直承接国家02专项光学系统……”

“蓝河科技有信心于今年年底完成13.5nm极紫外光刻机的工程验收。”盛明安顿了顿,环顾演讲厅一圈,询问:“有要提问的吗?”

――

全场安静,没人提问。

盛明安挑眉,学术圈不是很挑剔的吗?

一般来说,有关学术的研讨会都会引来大批听起来很像刁难的提问,上午的主题演讲和前几个专题研讨会后期举手询问的人很多,哪怕是某场非常敷衍的演讲也有主办方提前安排演员举手提问,以免出现冷场的尴尬局面。

怎么轮到他了,却没人提问?

难道是他承诺年底完成13.5nm光刻机工程验收太夸张,没有人相信?

他平时没这么冒进,只是莫伦科夫等人的做法太卑鄙让他难得生出怒气,这才抛弃原先保守的演讲,进而依靠前世研发组装光刻机的知识临时丰富演讲内容、大胆预言年底交出令世人瞩目的完美答卷。

但这也不算夸大海口,在盛明安原先的计划里,他确实打算年底完成一台13.5nm光刻机验收,明年第一季度售出可量产的高阶EUV。

盛明安不慌不忙,对着话筒再问一遍:“在场还有没有问题?”

“――”

安静持续两秒,下一刻掌声如雷鸣,底下坐着的人一大半都起身激动鼓掌,前排的大佬们还算矜持,只含笑鼓掌。

而高通高管、ASML高管之流面色难看,僵直不动。

莫伦科夫转头低声询问左手旁的ASML高管:“他说的话是真实的吗?蓝河科技是不是能够造出优于ASML的EUV?”

ASML高管忧心忡忡:“如果他们攻破了13.5nm的光源系统技术,优于ASML的EUV确实……很可能被攻破!”

“!!”莫伦科夫:“技术被封锁的华国人怎么可能造得出复杂的光刻机?”

他紧皱眉头,阴鸷的看向台上的盛明安:“他是谁?我从来没有听说过他――华国人盗窃了我们的技术?!”

ASML高管摇头否定:“虽然都是高阶极紫外光刻机,但显然核心技术不一样。”

盛明安演讲内容不涉及核心技术,只描述了轮廓,可是ASML高管已经能从轮廓分别出技术的不同。

更何况ASML的核心技术分别掌握在不同国家的企业,而这些企业传承四五十年甚至上百年,无论是核心技术的保密还是专利的保护,只有他们坑人的份。

ASML高管这么一说,莫伦科夫脸上血色全无,讪讪闭嘴,但心情直掉谷底。

前三排受邀嘉宾若有所思,有人侧身询问天野浩:“天野先生,您听明白了吗?”

天野浩点头:“他说了一个基础轮廓,大方向没有出错。如果可以,我希望能够亲自去一趟蓝河科技参观光源系统设备。”

“您的意思是说他们真的攻破E

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